Ikhtisar Produk

Hexafluoroethane (C₂F₆) adalah senyawa fluorokarbon jenuh yang sepenuhnya terfluorinasi, muncul sebagai gas yang tidak berwarna, tidak berbau, tidak-mudah terbakar, dan-tidak beracun dalam kondisi standar. Sebagai gas khusus elektronik yang penting, hexafluoroethane dihargai karena stabilitas kimianya yang luar biasa dan selektivitas etsa yang sangat baik, sehingga sangat diperlukan dalam manufaktur semikonduktor dan mikroelektronika. Diproduksi melalui proses pemurnian yang ketat, hexafluoroethane dengan kemurnian tinggi-memenuhi persyaratan ketat untuk aplikasi elektronik canggih yang mengutamakan kemurnian ultra-tinggi dan pengotor minimal.

Informasi Dasar

Nomor CAS.	76-16-4
Nomor PBB.	UN2193 (Heksafluoroetana, terkompresi)
Rumus Molekuler	C₂F₆
Klasifikasi Bahaya	2.2 (Gas-tidak mudah terbakar dan tidak-beracun)

Atribut & Parameter Utama

Kemurnian	Lebih besar dari atau sama dengan 99,999% (standar kelas 5N), dengan tersedia kelas yang lebih tinggi.
Pengotor Kritis (Spesifikasi Khas)	Oksigen (O₂) Nitrogen (N₂): Kurang dari atau sama dengan 2 ppm Kelembaban (H₂O): Kurang dari atau sama dengan 1 ppm Total Ion Logam: Kurang dari atau sama dengan 10 ppb
Titik didih	-78,2 derajat
Suhu Kritis	19,7 derajat
Tekanan Uap (pada 21,1 derajat )	3,33 MPa abs
Kepadatan (Gas, 25 derajat)	~7,85 kg/m³ (kira-kira. 5x lebih padat dari udara)

Fitur & Keunggulan

Stabilitas Kimia & Plasma Tinggi

Ikatan C-F yang kuat menghasilkan dekomposisi yang stabil dan terkendali di lingkungan plasma, menghasilkan radikal fluor aktif untuk pengetsaan yang presisi.

Selektivitas Etsa Unggul

Menawarkan rasio tingkat etsa yang sangat dapat disesuaikan antara silikon, silikon dioksida, silikon nitrida, dan photoresist, memungkinkan transfer pola canggih untuk node tingkat lanjut.

Sifat Dielektrik & Isolasi Yang Sangat Baik

Kekuatan dielektriknya yang tinggi dan stabilitas termal membuatnya cocok untuk aplikasi isolasi listrik khusus.

Kompatibilitas Proses & Jendela Lebar

Kompatibilitas yang terbukti dengan alat fabrikasi semikonduktor standar (misalnya, ICP, CCP etchers), menawarkan jendela proses yang luas dan stabil bagi produsen.

Karakteristik Fungsional

Dalam proses berbasis plasma-, heksafluoroetana terurai menghasilkan radikal fluor (F*) dan berbagai ion CFx. Hal ini memungkinkannya berfungsi terutama sebagai:

1. Etchant Presisi: Memungkinkan etsa anisotropik pada silikon, polisilikon, dan berbagai film dielektrik dengan selektivitas tinggi dan kontrol profil.

2. Bahan Pembersih Ruangan: Efektif menghilangkan residu berbasis silikon dari Deposisi Uap Kimia (CVD) dan mengetsa bagian dalam ruangan tanpa merusak komponen ruangan.

3. Gas Pembawa/Pengencer: Dapat digunakan untuk memodulasi dan menstabilkan kimia plasma dalam campuran gas.

Bidang Aplikasi Utama

Fabrikasi Semikonduktor

Pengetsaan kunci untuk pola gerbang polisilikon, isolasi parit dangkal (STI), dan dielektrik (SiO₂, rendah-k) melalui pengetsaan/parit. Penting untuk-pembersihan ruang di tempat.

Manufaktur Layar Panel Datar (FPD).

Digunakan dalam pembuatan pola susunan-transistor film tipis (TFT) dan fabrikasi-mikro layar OLED.

Fotovoltaik

Pembuatan tekstur dan pola dalam pembuatan sel surya-berbasis silikon dan-film tipis.

Aplikasi Lainnya

Digunakan sebagai zat pendingin (R116), gas isolasi pada peralatan listrik, dan gas penyangga pada laser.

Kasus Kolaborasi Pelanggan

Pabrik pengecoran semikonduktor terkemuka bermitra dengan kami untuk mengoptimalkan proses etsa lubang kontak chip logika 28nm, yang menghadapi tantangan terkait kekasaran dinding samping dan keseragaman etsa. Kami mengembangkan campuran gas berbasis heksafluoroetana-(dengan O₂ dan Ar) yang disesuaikan untuk alat pengetsa spesifiknya (Applied Materials Centura). Kami memasok 99,9995% heksafluoroetana dengan kemurnian ultra-tinggi-dengan pengotor logam<5 ppb and implemented a real-time gas monitoring system. This collaboration resulted in a 40% reduction in sidewall roughness (from 5.2nm to 3.1nm), improved within-wafer uniformity from ±8% to ±4%, and enhanced critical dimension control by 25%. The successful gas formulation was adopted as their standard process, contributing to a 3.2% increase in production yield and establishing a joint development framework for sub-10nm node etch solutions. This case highlights how our high-purity hexafluoroethane and application expertise directly enable advanced manufacturing.

Pertanyaan Umum

Q: Apa saja persyaratan khusus untuk mengekspor produk kimia ke Jepang terkait registrasi MITI dan standar JIS?

A: Untuk produk kimia yang diekspor ke Jepang, harus menyelesaikan proses registrasi impor MITI (Kementerian Ekonomi, Perdagangan dan Industri), menyerahkan manual produk, MSDS, kontrak impor, dll. Proses registrasi memakan waktu kurang lebih 5-7 hari kerja. Pada saat yang sama, mereka harus mematuhi standar industri JIS Jepang, seperti kandungan kemurnian dan pengotor produk kimia cair, dan distribusi ukuran partikel produk kimia padat, dll. Perusahaan kami dapat menyediakan MSDS berbahasa Jepang dan laporan pengujian untuk membantu pendaftaran MITI dan memastikan bahwa indikator produk memenuhi standar JIS, sehingga produk dapat dengan lancar melewati pemeriksaan oleh bea cukai Jepang.lancar melewati pemeriksaan oleh bea cukai Jepang.

Tag populer: hexafluoroethane, produsen, pemasok, pabrik hexafluoroethane Cina, Kloroetana CAS 75 00 3, Oksigen Cair Kriogenik, Kripton Cair, Nitrogen Dioksida CAS 10102 44 0, Sulfur Dioksida CAS 7446 09 5, Vinil Klorida CAS 75 01 4